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filmetrics近紅外光來測量薄膜厚度F3-sX 系列

更新時(shí)間:2024-04-13      瀏覽次數(shù):364

F3-sX 系列

F3-sX 系列能測量半導(dǎo)體與介電層薄膜厚度到3毫米,而這種較厚的薄膜與較薄的薄膜相比往往粗糙且均勻度較為不佳


波長選配

F3-sX系列使用近紅外光來測量薄膜厚度,即使有許多肉眼看來不透光(例如半導(dǎo)體)。 F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對成本敏銳的應(yīng)用而設(shè)計(jì),F3-s1310是針對重?fù)诫s硅片的最佳化設(shè)計(jì),F3-s1550則是為了最厚的薄膜設(shè)計(jì)。

附件

附件包含自動化測繪平臺,一個(gè)影像鏡頭可看到量測點(diǎn)的位置以及可選配可見光波長的功能使厚度測量能力最薄至15奈米。

包含的內(nèi)容:

集成光譜儀/光源裝置

光斑尺寸10微米的單點(diǎn)測量平臺

FILMeasure 8反射率測量軟件

Si 參考材料

FILMeasure 獨(dú)立軟件 (用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)

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